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半導体ダイサー装置におけるクリーンルーム対応HEX穴付きボルト・シールビス選定ガイド

半導体ダイサー装置におけるクリーンルーム対応HEX穴付きボルト・シールビス選定ガイド

半導体ダイサー製造工程における締結部品選定

対象設備:半導体ダイサー装置(Wafer Dicing System)
対象:半導体後工程装置、精密加工設備、クリーンルーム設備

工程1:ダイサーフレーム・ベース架台組立

工程内容

ダイサー本体ベース、精密加工フレーム、振動吸収架台を組み立てます。
高剛性アルミフレームおよび鋼製架台を高精度固定します。

なぜ必要か

ダイシング工程ではμm単位の位置精度が必要です。
締結剛性不足は切断ズレ・ブレード偏芯・歩留まり低下を発生させます。

使用製品

用途・役割

六角穴付きボルトは精密フレーム固定に使用します。
ステンレス高強度ボルトは耐腐食性確保に使用します。
JISワッシャーは面圧均一化とアルミ材保護を行います。

選定基準

  • 強度区分:10.9
  • 材質:SUS304、SCM435
  • 使用環境:クラス1000クリーンルーム
  • 規格:JIS B 1176、JIS B 1256

引用仕様書名または参考基準名

・SEMI S2 半導体製造装置安全ガイドライン
・JIS B 1176
・半導体製造装置組立標準仕様書

次工程

↓ スピンドル・切削ユニット組立

工程2:スピンドル・ダイシングユニット固定

工程内容

高速回転スピンドル、ダイシングブレードユニット、冷却ユニットを固定します。

なぜ必要か

高回転部では微小な緩みでも振動発生源になります。
ブレード芯ズレ防止のため高精度締結が必要です。

使用製品

用途・役割

六角穴付きボルトはスピンドル固定に使用します。
ノルトロックワッシャーは振動緩み防止を行います。
皿バネ座金は軸方向荷重安定化を行います。

選定基準

  • 強度区分:12.9
  • 材質:SCM435、SUS316
  • 使用環境:高速回転部・純水飛散環境
  • 規格:ISO 4762、DIN 25201

引用仕様書名または参考基準名

・SEMI規格
・ISO 4762
・半導体後工程装置精密組立基準

次工程

↓ 制御盤・サーボ系組立

工程3:制御盤・サーボユニット固定

工程内容

サーボアンプ、PLC制御盤、画像認識ユニットを筐体へ固定します。

なぜ必要か

半導体装置はノイズ対策とアース安定化が重要です。
制御盤内部の緩みは誤動作原因になります。

使用製品

用途・役割

なべ小ねじは制御機器固定に使用します。
バネ座金は緩み止めを行います。
端子ねじは接地端子固定に使用します。

選定基準

  • 強度区分:4.8
  • 材質:SUS304、ニッケルメッキ鋼
  • 使用環境:クリーンルーム内制御盤
  • 規格:JIS B 1111、JIS C 2805

引用仕様書名または参考基準名

・JEITA半導体装置配線基準
・JIS C 2805
・SEMI F47

次工程

↓ 外装カバー・安全機構組立

工程4:安全カバー・外装パネル固定

工程内容

飛散防止カバー、防音パネル、メンテナンス扉を固定します。

なぜ必要か

ダイシングブレード破損時の飛散防止が必要です。
純水飛散環境での防錆対策も必要です。

使用製品

用途・役割

シールビスは液体侵入防止を行います。
トラス小ねじは外装固定面積を確保します。
イタズラ防止ネジは安全カバー開放防止に使用します。

選定基準

  • 強度区分:A2-70
  • 材質:SUS304
  • 使用環境:純水・薬液飛散環境
  • 規格:ISO 14583、JIS B 1111

引用仕様書名または参考基準名

・SEMI S8 人間工学安全基準
・ISO 14583
・半導体装置安全設計基準

次工程

↓ 精度調整・最終検査工程

工程まとめ

参照規定

  • SEMI S2 半導体製造装置安全ガイドライン
  • SEMI F47
  • ISO 4762
  • DIN 25201
  • JIS B 1176
  • JIS B 1256
  • JEITA配線基準

必要商品

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